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產(chǎn)品分類TECHNICAL ARTICLES
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日本techvision盒式清洗裝置用于晶片盒等 TCC-803TCC-803盒式清洗裝置"型號是以高附加價值產(chǎn)品的制造工藝中使用的晶片盒、載體、盒等的精密清洗為清洗裝置。這是一種適用于小批量多品種生產(chǎn)的緊湊型設(shè)備。
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日本techvision盒式清洗裝置用于晶片盒等 TCC-803 特點介紹
TCC-803盒式清洗裝置"型號是以高附加價值產(chǎn)品的制造工藝中使用的晶片盒、載體、盒等的精密清洗為清洗裝置。
這是一種適用于小批量多品種生產(chǎn)的緊湊型設(shè)備。
多樣化的半導體器件,進入納米區(qū)的設(shè)計規(guī)則,在日益復雜的環(huán)境中提高成品率的要求,污染控制(防止雜質(zhì)附著到產(chǎn)品上)是解決這些問題的最重要的解決方案之一。
科技視野提供的盒式清洗裝置是支持這種高度清潔的高度清洗技術(shù)冷凝的載體清潔器。
日本techvision盒式清洗裝置用于晶片盒等 TCC-803 規(guī)格參數(shù)
精密清洗通過上下旋轉(zhuǎn)和左右旋轉(zhuǎn)功能,清潔您的每一個角落
強力清洗對晶圓收納槽的整個表面實施直角噴涂
熱純水內(nèi)置清潔加熱器,使用熱純水清洗
干燥脫水,干燥室兩步干燥
小占地面積立式設(shè)計,節(jié)省空間
1.具備工件上下和左右旋轉(zhuǎn)動作功能,精細清洗工件的每一個角落。2.實現(xiàn)對芯片收納間隙部的整個面部噴霧清洗的基本原理的直角噴霧。3.近距離強力噴射清洗。4.可根據(jù)各工件進行清洗噴嘴的布局。5.內(nèi)置純水加熱用內(nèi)聯(lián)式清潔加熱器。6.作為防止交叉污染的對策,內(nèi)置了清洗室內(nèi)的自清洗功能。7.清洗室和干燥室是獨立的。8.洗滌后進行99%的脫水后,工件移動到干燥室,因此,在不增加干燥室的濕度的情況下,可以可靠地干燥。9.干燥-2確保干燥,不會對芯片造成殘留水分的不良影響。
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