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日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 特點介紹
全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘渣的to盒的全自動光掩膜清洗裝置。
干燥采用熱純水干燥,而不是傳統(tǒng)的氣刀干燥,并采用免調節(jié)設計,省去了水飛濺調節(jié)的麻煩。 熱純水干燥
對應的面罩尺寸,最多7英寸。專用盒最多可裝20張。
日本進口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 規(guī)格參數
?輕松去除附著在掩模上的抗蝕劑
?輕松移除蒙版上的粒子
?清洗液開發(fā)對環(huán)境友好的溫和的水溶性藥液
?從熱硫酸和硫酸過水等危險中解脫出來
?不需要昂貴的去除劑和顯影液
用途:平板顯示器,MEMS器件,精細圖案PCB/FPC/TAB,化合物半導體,薄膜電子元件等。
TWC系列可同時去除附著在掩模上的抗蝕劑和顆粒。使用專用藥液去除抗蝕劑和TW系列培養(yǎng)的顆粒去除技術,有助于提高口罩的清潔度。
全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘渣的to盒的全自動光掩膜清洗裝置。
干燥采用熱純水干燥,而不是傳統(tǒng)的氣刀干燥,并采用免調節(jié)設計,省去了水飛濺調節(jié)的麻煩。 熱純水干燥
對應的面罩尺寸,最多7英寸。專用盒最多可裝20張。