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日本filgen濺射鍍膜機帶蝕刻模式無熱損傷 12151-AB/12151E-AB ●節(jié)省空間/臺式濺射鍍膜機 ●快速鍍膜（金鍍層在 20 秒內電流可達 200A）——對樣品無熱損傷。 ●可濺射/蝕刻 ●可以通過移動樣品臺來調整到目標的距離。 ●惰性氣體 - 輸入/輸出端口/可進行樣品臺冷卻 ●提供各種靶材（Au、Au/Pd、Pt、Pd、Ag）（可選）

日本filgen去除有機污染物UV臭氧清洗儀進口 UV253MINI UV253MINI是一種通過UV（紫外線）和臭氧的協(xié)同作用去除有機污染物的UV臭氧凈化器。 通過有機溶劑清洗或超聲波清洗等，可除去濕式清洗無法除去的有機污染物質。 UV燈具有兩個短波長，即184.9nm產生臭氧效果高，253.7nm促進臭氧活化。

日本Filgen紫外臭氧有機溶劑超聲波清洗儀 UV253V8/UV253V8R ●單獨使用超聲波清洗無法去除的基材上的有機污染物可以輕松去除。 ●濕法清洗中使用的有機溶劑也被去除。 ●可以在不損壞基材表面的情況下去除有機污染物。 ●LB膜的堆積變得容易。（累計率將大幅提升。） ●一種可在常壓下使用且不需要真空裝置的干洗設備。

日本進口filgen等離子鍍膜機EVO涂層多功能 OPC60A 這是一種以SEM樣品為主的導電性薄膜的制造裝置，采用“利用直流輝光放電的負輝光相區(qū)域的等離子膜制造方法”。

日本Filgen等離子鍍膜機用于導電性薄膜裝置 OPC60A/OPC80T 電子顯微鏡試樣用導電性薄膜制作裝置等離子體涂布機 ◆膜專用型（OPC60A） ◆膜/等離子體聚合膜雙用型（OPC80T） ◆導電性超薄膜制膜機構 ◆親水化處理機構 ◆深型試樣機構 ◆可選消耗品

日本DIC酸、堿、有機溶劑等液體脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE，接觸液體部全部為氟樹脂制的脫氣模組。可進行酸、堿、有機溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導體、LCD制造過程中使用液體的脫氣、除泡（各種抗蝕劑、稀釋劑、化學制劑等） 溶劑型噴墨墨水的脫氣

日本DIC用于半導體/化學制劑等脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE，接觸液體部全部為氟樹脂制的脫氣模組。可進行酸、堿、有機溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導體、LCD制造過程中使用液體的脫氣、除泡（各種抗蝕劑、稀釋劑、化學制劑等） 溶劑型噴墨墨水的脫氣

Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物 兼容晶圓、石英、玻璃、藍寶石、SiC等多種材質。 結合高壓間歇噴射、二流體噴射、各種刷子、超聲波、化學溶液等，可應對從粗加工到各種清洗工藝。拋光后清洗至精密清洗。